제품
중국 합금 평면 대상 제조업체, 공급업체, 공장
합금 평면 타겟은 둘 이상의 합금으로 도핑된 타겟입니다. 제품의 순도는 99.5% - 99.999%이며 마그네트론 스퍼터링 도금, 열 증착 도금 및 전자빔 증착 도금에 적합합니다. 제품은 다양한 반도체 산업, 태양 광 발전 및 광열 산업, 건설 및 자동차, 평면 패널 디스플레이, 액정 디스플레이, LED, 집적 회로, 구성 요소, 자기 기록, 장식 및 도구 코팅, 항공 우주, 군사, 과학 연구 및 다른 분야.
Senxiang은 고객 요구 사항에 따라 다양한 유형의 합금 평면 타겟을 시험 생산할 수 있습니다. 도핑 속도 및 제품 크기는 사용자 정의할 수 있습니다. 상담을 환영합니다.
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티타늄 알루미늄 합금 스퍼터링 타겟
Senxiang은 티타늄 알루미늄 합금 스퍼터링 타겟의 연구 개발을 전문으로 하는 하이테크 기업입니다. 그것은 당신의 필요에 따라 주문을 받아서 만들어질 수 있는 티타늄 알루미늄 합금 스퍼터링 표적의 전 범위를 생성할 수 있습니다.
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알루미늄 네오디뮴 합금 스퍼터링 타겟
Senxiang은 밀도가 가장 높은 고순도 알루미늄 네오디뮴 합금 스퍼터링 타겟 생산을 전문으로 합니다. 평균 입자 크기가 가장 작은 고순도(99.9%) Al-Nd 합금 스퍼터링 타겟은 반도체, 화학 기상 증착(CVD) 및 물리 기상 증착(PVD) 디스플레이 및 광학 응용 분야에 사용할 수 있습니다.
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몰리브덴 니오븀 합금 스퍼터링 타겟
몰리브덴 니오븀(MoNb)은 터치 패널에서 ITO 센서의 특수 내식성 접점으로 사용됩니다. Senxiang의 몰리브덴 니오븀 합금 스퍼터링 타겟은 가장 엄격한 품질 요구 사항을 충족합니다. 특수 순수 금속 분말에서 완제품에 이르기까지 전체 제조 공정을 한 지붕 아래 집중시킵니다. 당사의 몰리브덴 니오븀 합금 스퍼터링 타겟은 모든 일반적인 크기의 평면 타겟 및 회전 타겟으로 사용할 수 있습니다.
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텅스텐 티타늄 평면 합금 스퍼터링 타겟
텅스텐 티타늄 평면 합금 스퍼터링 타겟은 낮은 전자 이동성, 안정적인 열 기계적 특성, 우수한 내식성 및 우수한 화학적 안정성을 가지고 있습니다. 최근 몇 년 동안 텅스텐-티타늄 합금 스퍼터링 타겟은 반도체 칩의 게이트 회로용 접촉층 재료로 사용되었습니다. 또한 텅스텐 티타늄 합금 스퍼터링 타겟은 반도체 장치의 금속 연결에서 배리어 층으로도 사용할 수 있습니다. 주로 vlsi 및 태양 전지용으로 고온 환경에서 사용됩니다.
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알루미늄 크롬 합금 스퍼터링 타겟
Senxiang은 디스크, 직사각형, 기둥, 계단 및 맞춤형 모양과 같은 다양한 모양의 알루미늄 크롬 합금 스퍼터링 타겟을 생산합니다. 원형 타겟의 일반적인 직경은 1인치, 2인치, 3인치, 4인치 또는 50mm, 60mm, 80mm, 100mm 등을 포함합니다. 일반적인 두께는 0.125인치 및 0.25인치 또는 3mm, 4mm, 5mm, 6mm 등을 포함합니다. 스퍼터링 타겟은 다음과 같습니다. reuqest로 구리 백킹 플레이트와 결합.
알루미늄 크롬(Al-Cr) 합금 스퍼터링 타겟에 대해 다양한 순도, 모양 및 크기를 맞춤 제작할 수도 있습니다. 당신은 우리에게 견적에 대한 귀하의 문의를 보낼 수 있습니다.
